大型真空设备论文

本文主要研究内容作者阮智伟,王展威,郝明,陈树雷,姜玥,刘坤,巴德纯（2019）在《基于DSMC对磁控溅射镀膜设备的流场分析与研究》一文中研究指出：在磁控溅射镀膜工艺中的真空环...