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杨仲秋:工作气压对磁控溅射薄膜的影响论文
本文主要研究内容作者杨仲秋(2019)在《工作气压对磁控溅射薄膜的影响》一文中研究指出:结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速...