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袁秀芳:掺杂浓度对Y掺杂HfO2铁电薄膜的畴反转过程的调控作用论文
本文主要研究内容作者袁秀芳(2019)在《掺杂浓度对Y掺杂HfO2铁电薄膜的畴反转过程的调控作用》一文中研究指出:铁电存储器是铁电材料的最重要的应用,而铁电存储器一个非常重要的...